分析师:台积电3nm工艺良率在60%至80%之间

时间:2023-01-01       来源: IT之家       阅读量:10946   

TSMC 12月29日在台南科学园区举行3nm量产暨工厂扩建仪式,正式宣布开始3nm量产三星几个月前开始N3制程芯片制造,但TSMC的良率明显更好

据Business Next报道,专门研究半导体的分析师和专家估计,目前TSMC的N3良率可能低至60%至70%,或高达75%至80%,这对第一批产品来说相当不错与此同时,金融分析师丹·尼斯泰特在推特上表示,TSMC目前的N3收益率与上升之初的N5收益率相似,收益率可能高达80%

相比之下,三星代工前期的3GAE工艺良品率在10% ~ 20%之间,并没有什么提升。

目前TSMC只有有限数量的N3设计用于商业生产,良品率的相关数据是代工厂及其客户的商业机密,因此无法对N3的良品率有多高或多低做出具体判断。

此外,考虑到围绕初始N3节点的传言,苹果可能是唯一一家采用该技术的公司,其他开发者预计将使用更稳定的N3E来改进流程。

本站了解到,TSMC将采用产能有限的N3节点工艺,然后在2023年末转向整体生产更稳定高效的N3E,2024年再转向N3P今年,TSMC还将在新竹工厂将其2nm GAA工艺投入试产,并于2025年进行量产

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